标签： 光刻
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三星被曝将首次外包芯片“光掩模”生产，聚焦 ArF 和 EUV 等先进技术
5 月 14 日消息，光掩模（版）系生产集成电路所需之模具，是用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，其原理类似于冲洗相片时利用底片将影像复制到…
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SK 海力士宣布业界率先完成氖气回收技术开发，每年可节省 400 亿韩元
4 月 2 日消息，SK 海力士于昨日宣布，已与韩半导体行业特种气体制造商 TEMC 成功合作开发了业界首个氖气回收技术，每年可节省 400 亿…
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支持7nm高端DUV光刻机可出口！ASML绝不能丢失中国市场背后 营收占比高
快科技4月28日消息，对于中国市场而言，ASML正在全力以赴，预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币超162亿元），其正…
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ASML不承认也没用 EUV光刻机明年真的不好卖：第一大客户带头砍单
快科技4月26日消息，ASML的EUV光刻机是7nm以下工艺必不可少的设备，售价将近10亿元一台，之前台积电、三星等公司纷纷抢购，然后现在半导体…
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努比亚Z50 Ultra星空典藏版公布：纳米级光刻纹理AG玻璃
努比亚手机今日官宣，将推出努比亚Z50 Ultra星空典藏版。 据介绍，新机采用全球唯一环保玻璃立体蚀刻工艺，配合纳米级光刻纹理AG玻璃材质，带…
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佳能推出晶圆测量机新品 MS-001：比光刻机精度更高，可提高生产效率
感谢网友 肖战割割 的线索投递！ 2 月 21 日消息，在逻辑、存储器、CMOS 传感器等尖端半导体领域，制造工艺日趋复杂，半导体元器件制造厂商…
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追赶台积电！三星推动开发高端EUV薄膜
光罩薄膜是极紫外 (EUV) 光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开一层薄膜，然后机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，以免光罩受空气中微尘或挥…
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ASML新一代高NA EUV光刻机造价2500亿：Intel一年赚的钱不够买一台
荷兰ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备。 所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，…
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首创3D纳米浮雕光刻！联想YOGA Pro 14s王一博定制版亮相
今日，联想YOGA向大家展示了YOGA Pro 14s王一博定制版笔记本，该机将于今晚18:30的联想消费生态星光直播夜限量发售。 据官方介绍，…
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Intel首代EUV工艺来了！14代酷睿年底流片：5芯合1
在EUV光刻工艺上，Intel此前承认他们过去翻错了，让台积电、三星抢先了，毕竟Intel是最早研发EUV工艺的半导体公司之一，现在Intel可…