三星采用极紫外光刻技术生产存储芯片

　　据 oltnews 援引日经亚洲新闻消息，三星周三宣布，它已经在首尔华盛市的一家 DRAM 工厂的一条生产线上部署了极紫外光刻技术（EUV），将精密内存芯片制造的生产率提高一倍。三星是第一个将这项技术用于大规模生产存储芯片的公司，这是 20 年来生产技术的首次重新设计。

　　三星的竞争对手 SK Hynix 计划明年在 DRAM 生产线上安装 EUV 设备。虽然三星是第一个采用这种新工艺生产存储芯片的公司，但英特尔和台湾半导体制造公司此前已经在使用这种技术生产处理器了。